2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁
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文檔簡介

1、鎂合金微弧氧化技術是通過電解液中的高壓放電作用,在金屬表面原位生長陶瓷膜的一種新工藝。本文是借鑒已有化學試劑配方組成、配比的基礎上,參考前期嘗試性試驗結果,通過在現有微弧氧化配方組成中添加SiC顆粒(粒徑≤5μm),并對其工藝參數進行了優化,對所制備的微弧氧化復合膜層的特性進行了深入探討。
　　 在電解液配方組成部分,采用已有的硅酸鹽體系的電解液配方,添加增強體SiC顆粒(粒徑≤5μm),并對該體系的微弧氧化電解液配方及工藝參數

2、進行了優化,確定電解液最佳配方為硅酸鈉15g/L、氫氧化鈉2g/L、氟化鉀13g/L、SiC顆粒3 g/L:最佳工藝參數為,恒流模式、頻率600Hz、占空比30％、微弧氧化時間50分鐘。
　　 在膜層性能研究部分,在該電解液配方和工藝參數條件下制備的微弧氧化復合膜層和在相同條件下所制備的微弧氧化膜層(電解液中未加入SiC顆粒)進行比較,微弧氧化復合膜層的膜厚均勻、致密度高、硬度高、耐腐蝕性能和耐磨損性能都優于微弧氧化膜層,對微弧

3、氧化復合膜層和微弧氧化膜層的微觀表面形貌都進行SEM觀察分析發現:膜層表面都是由許多微孔構成的網狀結構,但是前者更致密、孔徑相對較小、微裂紋相對較少。對微弧氧化復合膜層進行XRD物相分析發現:該膜層主要是由Mg、MgO、Mg2SiO4和SiC組成。對微弧氧化復合膜層進行EPMA元素濃度變化分析發現:膜層中Mg、Si、C、O的元素沿選定直線方向上的濃度的變化情況。對微弧氧化復合膜層進行EDS元素含量和分布的分析發現:氧化時間對Si、C、O

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