2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題(含答案詳解+作文范文)_第1頁
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文檔簡介

1、硅納米線(SiNWs)材料因其優異的力學、熱學及光電學性質而受到了廣泛的關注。其中,利用金屬輔助化學刻蝕的方法可以在重摻Si片上制備表面具有多孔結構的SiNWs陣列。由于自從1990年發現多孔Si具有室溫光致發光的特點以來,對于多孔Si材料結構與光學性能的研究便一直是人們關注的熱點。因此,關于多孔SiNWs陣列的可控制備及其發光性能提升研究,對多孔Si在半導體納米光電子器件領域中的應用有著重要的意義。
  本研究中,通過對實驗參數

2、的優化,我們在重摻Si襯底上制備了形貌可控、發光強度可調的多孔Si NWs陣列,并通過原子層沉積(ALD)的方法將Si NWs與HfO2材料相結合,獲得了Si-HfO2核殼結構,在表面鈍化的同時實現了1.7倍的發光增強。另外,我們對Si NWs的傳感特性進行了初探,通過其對乙醇的光響應測試研究了Si NWs的光猝滅,并提升了其探測穩定性。
  主要研究內容如下:
  (1)在p-Si-(100)、p-Si-(111)以及n-

3、Si-(111)三種規格的重摻Si襯底上獲得了多孔SiNWs陣列。通過改變刻蝕劑中氧化劑濃度,實現了重摻p-Si-(111)型襯底上取向可控的SiNWs的制備。
  (2)通過常溫光致發光譜(PL)和比表面積(BET)測試,研究了刻蝕劑中氧化劑濃度、原材料襯底取向及Si片摻雜元素與Si NWs陣列的多孔性及發光強度的關系,并對這些影響因素的作用機理作了進一步的分析。
  (3)通過ALD方法在Si NWs表面包覆一層透光層,

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