2023年全國碩士研究生考試考研英語一試題真題（含答案詳解+作文范文）_第1頁
已閱讀1頁，還剩98頁未讀， 繼續免費閱讀

下載本文檔

版權說明：本文檔由用戶提供并上傳，收益歸屬內容提供方，若內容存在侵權，請進行舉報或認領

文檔簡介

1、該論文介紹了幾種氮化物薄膜的低溫合成和對氮化物薄膜的性質研究.低溫合成制備優質的氮化物薄膜的關鍵是低溫條件下化合物的形成和膜層的生長.在脈沖激光燒蝕（PLA）過程、脈沖激光沉積（PLD）技術、電子回旋共振（ECR）微波放電和ECR等離子體特性研究的基礎上,摸索發展了一種低溫合成制備化合物薄膜的新方法-ECR等離子體輔助脈沖激光沉積（ECR-PLD）,并成功地應用于Ⅲ族氮化物AlN、GaN薄膜和碳基氮化物CN、BCN的合成制備.在低溫（<

2、80℃）條件下應用這種方法,分別以金屬鋁、多晶砷化鎵（GaAs）、石墨、碳化硼（B<,4>C）靶為原材料,合成制備了AlN、GaN、CNx和BCN薄膜.制備得到的AlN薄膜的Al：N平均原子數比約為1：1,可見至近紅外波段呈現80-95﹪的透射率,吸收邊位于200nm處,能隙寬度為5.7eV;還研究了AlN薄膜脈沖光致發光及其時間演變,觀察到光發射的非指數衰減現象以及氧雜質對發射譜的影響.GaN薄膜的Ga和N的平均原子比為46-54,在

眾賞文庫> 全部分類> 畢業設計

溫馨提示

  • 1. 本站所有資源如無特殊說明，都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
  • 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等，如果需要附件，請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
  • 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙，網頁內容里面會有圖紙預覽，若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
  • 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業或盈利用途。
  • 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間，僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理，對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯，并不能對任何下載內容負責。
  • 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容，請與我們聯系，我們立即糾正。
  • 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。

最新文檔

評論

0/150

提交評論