電沉積Ni-Cr和Fe-Ni-Cr合金的工藝及其電化學行為研究.pdf

1、現代工業的迅猛發展對材料的防腐性能提出了更高的要求，其中鉻合金鍍層由于其優異的耐蝕性和硬度而備受矚目，而鉻合金電鍍的研究多是在銅基上進行的，在鐵基上電沉積鎳一鉻和鐵一鎳一鉻合金鍍層的工藝國內外鮮有報道。 本文采用氯化物一硫酸鹽混合體系成功地在鐵基上電沉積出Ni-Cr和Fe-Ni-Cr合金，系統地研究了各工藝條件對合金成分影響，確定出電沉積鎳一鉻合金的最佳工藝配方和條件為：NiSO<,4>·6H<,2>O50g／L，NiC

2、l<,2>·6H<,2>O 45g／L，CrCl<,3>·6H<,2>O75g／L，檸檬酸70g／L，檸檬酸鈉105g／L，H<,3>BO<,3> 50g／L，光亮劑WHT 4g／L，光亮劑7917.5～10ml／L，十二烷基硫酸鈉0.15～0.2g／L，陰極電流密度為14～16A／dm<'2>，鍍液溫度為30℃，pH值為2.5。所得鍍層Cr的含量為24.1％，鍍層光亮致密、均勻光滑、耐蝕性能好、硬度高且與基體的結合力好；確定出電沉積鐵

3、一鎳一鉻合金的最佳工藝配方和條件為：FeSO<,4>7H<,2>O40g／L，NiSO<,4>·6H<,2>O 160g／L，NiCl<,2>6H<,2>O 45g／L，CrCl<,3>·6H<,2>O 25g／L，H<,3>BO<,3> 45g／L，抗壞血酸12g／L，檸檬酸30 g／L，檸檬酸鈉20g／L，光亮劑WHT3g／L，光亮劑7912ml／L，十二烷基硫酸鈉0.06g／L，陰極電流密度為14A／dm<'2>，鍍液溫度為30℃

4、，pH值為2.0，在此條件下，鍍層中Cr的含量接近6％，Fe的含量為54％，鍍層光亮致密、均勻光滑、耐蝕性能好且與基體的結合力好。 通過電勢線性掃描、循環伏安等電化學方法，研究了Fe、Ni、Cr單獨電沉積與Ni-Cr、Fe-Ni-Cr合金共沉積的陰極極化曲線和循環伏安曲線，結果表明：Ni-Cr合金共沉積比鎳和鉻單獨沉積速度要快；在Fe-Ni-Cr合金共沉積過程中，Ni、Fe對Cr的沉積有誘導的作用，使鉻在合金鍍液中的沉積