版權說明:本文檔由用戶提供并上傳,收益歸屬內容提供方,若內容存在侵權,請進行舉報或認領
文檔簡介
1、基于石墨烯優異的電子、機械、熱學、光學性能以及廣闊的應用前景,自2004年被發現以來迅速成為材料學與物理學領域的研究熱門。目前,制備石墨烯的方法有很多,但是如何實現石墨烯的快速生長、生長區域的可控性、微區生長以及非轉移生長一直是石墨烯在電子器件上應用必須解決的問題。通過對石墨烯多種制備方法的比較,發現激光化學氣相沉積法(Laser Chemical Vapor Deposition,LCVD)是最有可能實現這一要求的方法,本文也將采用該
2、方法進行石墨烯的制備,并對LCVD法制備石墨烯過程中若干關鍵技術進行研究,主要工作有:
1、介紹了石墨烯的概念、性質及應用,對當前多種的石墨烯激光法制備技術進行對比和分析,闡述了LCVD法制備石墨烯的優勢及可行性,并且根據LCVD法制備石墨烯的原理自行設計并搭建了實驗平臺,主要包括激光聚焦單元、真空單元、反應源氣體及控制單元、三維運動平臺單元、聚焦光斑測量單元,為石墨烯的LCVD法制備奠定基礎。
2、激光聚焦光斑面積
3、的測量是LCVD法制備石墨烯的關鍵問題,采用基于圖像處理的方法對光斑測量單元的硬件和軟件進行詳細設計,根據需要制備的石墨烯納米帶的大小選擇相應的光斑面積,同時對光斑區域的功率密度進行計算,保證基底表面激光照射處具有足夠的能量使溫度迅速達到石墨烯的生長溫度。
3、溫度是石墨烯生長的關鍵因素,將直接影響石墨烯制備的層數和質量,因此,采用ANSYS軟件對LCVD法制備石墨烯過程中的光斑照射區域的靜態和動態溫度場分布進行仿真與分析,研
溫馨提示
- 1. 本站所有資源如無特殊說明,都需要本地電腦安裝OFFICE2007和PDF閱讀器。圖紙軟件為CAD,CAXA,PROE,UG,SolidWorks等.壓縮文件請下載最新的WinRAR軟件解壓。
- 2. 本站的文檔不包含任何第三方提供的附件圖紙等,如果需要附件,請聯系上傳者。文件的所有權益歸上傳用戶所有。
- 3. 本站RAR壓縮包中若帶圖紙,網頁內容里面會有圖紙預覽,若沒有圖紙預覽就沒有圖紙。
- 4. 未經權益所有人同意不得將文件中的內容挪作商業或盈利用途。
- 5. 眾賞文庫僅提供信息存儲空間,僅對用戶上傳內容的表現方式做保護處理,對用戶上傳分享的文檔內容本身不做任何修改或編輯,并不能對任何下載內容負責。
- 6. 下載文件中如有侵權或不適當內容,請與我們聯系,我們立即糾正。
- 7. 本站不保證下載資源的準確性、安全性和完整性, 同時也不承擔用戶因使用這些下載資源對自己和他人造成任何形式的傷害或損失。
最新文檔
- 激光化學氣相沉積光掩模版修復系統的研究.pdf
- 化學氣相沉積法制備石墨烯研究.pdf
- 石墨烯的化學氣相沉積法合成研究.pdf
- 石墨烯的化學氣相沉積法合成及原位表征.pdf
- 石墨烯的低壓化學氣相沉積法制備研究.pdf
- 化學氣相沉積法制備石墨烯及其光電性能研究.pdf
- 石墨烯薄膜的化學氣相沉積法制備及應用研究.pdf
- Si(110)基板上激光化學氣相沉積法外延生長3C-SiC薄膜.pdf
- 銅表面化學氣相沉積石墨烯的研究.pdf
- 高質量雙層石墨烯化學氣相沉積制備研究.pdf
- 化學氣相沉積法制備石墨烯銅復合材料.pdf
- 化學氣相沉積法生長石墨烯的CFD模擬研究.pdf
- 激光化學推進的研究.pdf
- 氧化性氣體調控石墨烯的化學氣相沉積生長研究.pdf
- 氧化石墨烯的電化學-光化學納米網還原及性能研究.pdf
- 化學氣相沉積法制備石墨烯及其結構、性能調變.pdf
- 氧化鋅襯底上化學氣相沉積法制備石墨烯研究.pdf
- 化學氣相沉積法制備石墨烯生長機制的理論研究.pdf
- 超大面積石墨烯化學氣相沉積生長、性質及應用研究.pdf
- 基于同位素標定技術化學氣相沉積法石墨烯的生長機制研究.pdf
評論
0/150
提交評論